描述
规范:
- 计算机控制与winlab软件版本4.1 SP1。
- 除炉膛操作为单光束外，实时双光束全反射光学系统。
- 利特罗结构光栅单色。
- 分段离散固态探测器与CMOS电荷放大阵列和软件控制自动增益控制。
- 8个单灯和多灯的位置
- 也可以使用4个EDL灯。火焰雾化与预混燃烧器系统和气动喷雾器和可互换的燃烧器头。
- 带有横向加热石墨炉的电热雾化，该石墨炉带有用于纵向塞曼效应背景校正的电磁铁。
- 系统应提供自动准备50样品准备系统，炉冷却器，as800和as90a自动进样器。气泵和空气水分过滤器5µ& 0.1µ过滤器附着在空气压缩机后，用于去除水分，油，灰尘和雾颗粒。
- 机组应采用乙炔气和空气混合气
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